Výsledky vyhľadávania
Názov Integration of atomic layer deposited Al2O3 dielectrics with graphene Autor Brndiarová Jana 1991 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Spoluautori Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Hulman Martin 1967 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Rosová Alica 1962 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Dobročka Edmund 1955 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Kahro T. Aarik J. Zdroj.dok. / Vajda J. ; Jamnický I. ; Sitek J. ; Ballo P. APCOM 2015 : Proceedings of the 21st International Conference on Applied Physics of Condensed Matter. P. 169-174. - Bratislava : STU, 2015 Kategória AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách Rok vykazovania 2015 
článok
Názov Influence of growth temperature on the structure and electrical properties of high-permittivity TiO2 films in TiCl4-H2O and TiCl4-O3 atomic-layer-deposition processes Autor Arroval T. Spoluautori Aarik L. Rammula R. Mändar H. Aarik J. Hudec Boris SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Hušeková Kristína 1957 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Zdroj.dok. Physica Status Solidi A : applications and materials science. Vol. 211, (2014), p. 425-432 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2014 DOI 10.1002/pssa.201330086 článok
Názov Nanoscale characterization of TiO2 films grown by atomic layer deposition on RuO2 electrodes Autor Murakami K. Spoluautori Rommel M. Hudec Boris SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Rosová Alica 1962 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Hušeková Kristína 1957 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Dobročka Edmund 1955 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Rammula R. Kasikov A. Han J.H. Lee W. Song S.J. Paskaleva A. Bauer A.J. Frey L. Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Aarik J. Hwang C.S. Zdroj.dok. ACS Applied Materials & Interfaces. Vol. 6, (2014), p. 2486 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2014 DOI 10.1021/am4049139 článok
Názov Atomic layer deposition of high-quality Al2O3 and Al-doped TiO2 thin films from hydrogen-free precursors Autor Aarik L. Spoluautori Arroval T. Rammula R. Mändar H. Sammelselg V. Hudec Boris SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Hušeková Kristína 1957 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Aarik J. Zdroj.dok. Thin Solid Films. Vol. 565, (2014), p. 19-24 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2014 DOI 10.1016/j.tsf.2014.06.038 článok
Názov Impact of plasma treatment on electrical properties of TiO2/RuO2 based DRAM capacitor Autor Hudec Boris SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Spoluautori Hušeková Kristína 1957 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Rosová Alica 1962 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Šoltýs Ján 1977 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Rammula R. Kasikov A. Uustare T. Mičušík Matej 1977- SAVPOLYM - Ústav polymérov SAV Omastová Mária 1962- SAVPOLYM - Ústav polymérov SAV Aarik J. Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Zdroj.dok. Journal of Physics D: Applied Physics. Vol. 46 (2013), 385304 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2013 DOI 10.1088/0022-3727/46/38/385304 článok
Názov Atomic layer deposition of rutile-phase TiO2 on RuO2 from TiCl4 and O3: Growth of high-permittivity dielectrics with low leakage current Autor Aarik J. Spoluautori Arroval T. Aarik L. Rammula R. Kasikov A. Mändar H. Hudec Boris SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Hušeková Kristína 1957 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Zdroj.dok. Journal of Crystal Growth. Vol. 382 (2013), p. 61-66 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2013 DOI 10.1016/j.jcrysgro.2013.08.006 článok
Názov Atomic layer deposition of high-permitivity TiO2 dielectrics with leakage current on RuO2 in TiCl4-based processes Autor Aarik J. Spoluautori Hudec Boris SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Hušeková Kristína 1957 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Rammula R. Kasikov A. Arroval T. Uustare T. Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Zdroj.dok. Semiconductor Science and Technology. Vol. 27, (2012), 074007 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2012 DOI 10.1088/0268-1242/27/7/074007 článok
Názov TiO2-based metal-insulator-metal structures for future DRAM storage capacitors Autor Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Spoluautori Hudec Boris SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Ťapajna Milan 1977 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Hušeková Kristína 1957 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Rosová Alica 1962 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Eliáš Peter 1964 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Aarik J. Rammula R. Kasikov A. Arroval T. Aarik L. Murakami K. Rommel M. Bauer A.J. Zdroj.dok. ECS Transactions. Vol. 50, (2012), p. 79-87 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2012 DOI 10.1149/05013.0079ecst článok
Názov Analysis of leakage current mechanisms in RuO2-TiO2-RuO2 MIM structures Autor Racko J. Spoluautori Mikolášek M. Harmatha L. Breza J. Hudec Boris SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Aarik J. Tarre A. Granzner R. Schwierz F. Zdroj.dok. Journal of Vacuum Science and Technology B. Vol. 29, (2011), 01AC08 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2011 DOI 10.1116/1.3534022 článok
Názov Atomic layer deposition grown metal-insulator-metal capacitors with RuO2 electrodes and Al-doped rutile TiO2 dielectric layer Autor Hudec Boris SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Spoluautori Hušeková Kristína 1957 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Dobročka Edmund 1955 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Aarik J. Rammula R. Kasikov A. Tarre A. Vincze A. Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Zdroj.dok. Journal of Vacuum Science and Technology B. Vol. 29, (2011), 01AC09 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2011 DOI 10.1116/1.3534023 článok