Výsledky vyhľadávania

Nájdených záznamov: 51  
Váš dotaz: Autor-kód záznamu + druh.dok = "^sav_un_auth 0157167 xcla^"
  1. NázovOptical properties of LEDs with patterned 1D photonic crystal
    Autor Hronec P.
    Spoluautori Kuzma A.
    Škriniarová Jaroslava
    Kováč J., jr.
    Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Haščík Štefan 1956 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
    Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Zdroj.dok.Nanoengineering: Fabrication, Properties, Optics, and Devices XII. E. M. Campo, E. A. Dobisz, L. A. Eldada (eds.), , vol. 9556, art. no. UNSP 95561A. - : SPIE, 2015
    KategóriaADMA - Vedecké práce v zahraničných impaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2015
    DOI 10.1117/12.2188127
    článok

    článok

  2. NázovStudy and comparison of resist characteristics for different negative tone electron beam resist
    Autor Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Spoluautori Vutova Katia
    Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Koleva Elena
    Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 2443, no. 1 (2023), art. no. 012006
    KategóriaADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2023
    DOI 10.1088/1742-6596/2443/1/012006
    článok

    článok

  3. NázovOptimisation criteria for the process electron beam lithography of negative AR-N7520 resists
    Autor Koleva Elena
    Spoluautori Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Vutova Katia
    Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 2443, no. 1 (2023), art. no. 012007
    KategóriaADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2023
    DOI 10.1088/1742-6596/2443/1/012007
    článok

    článok

  4. NázovDependence of PMMA electron beam resist sidewall shape on exposure dose and resist thickness
    Autor Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Spoluautori Vutova Katia
    Koleva Elena
    Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Zdroj.dok. AIP Conference Proceedings : Applied Physics of Condensed Matter (APCOM 2021). Vol. 2411 (2021), art. no. 040001
    KategóriaADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2021
    DOI 10.1063/5.0067068
    článok

    článok

  5. NázovOptimization of electron beam lithography processing of resist AR-N 7520
    Autor Koleva Elena
    Spoluautori Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Koleva Lilyana
    Vutova Katia
    Markova Irina
    Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Akcia VI International scientific conference INDUSTRY 4.0. Winter session : 8-11 December 2021 : Borovets, Bulgaria
    Zdroj.dok. Industry 4.0. Vol. 6, no. 5 (2021), p. 189-191
    KategóriaADEB - Vedecké práce v ostatných zahraničných časopisoch neimpaktovaných
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok z podujatia
    Rok vykazovania2022
    článok

    článok

  6. NázovPMMA resist profile and proximity effect dependence on the electron-beam lithography process parameters
    Autor Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Spoluautori Vutova Katia
    Koleva Elena
    Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Akcia VEIT 2019. 21st International Summer School on Vacuum, Electron and Ion Technologies : 23-27 September 2019 : Sozopol, Bulgaria
    Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 1492 (2020), art. no. 012015
    KategóriaADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2020
    DOI 10.1088/1742-6596/1492/1/012015
    Názov súboruPrístupVeľkosťStiahnutéTypLicence
    PMMA resist profile and proximity effect dependence on the electron-beam lithography process parameters.pdfPrístupný748.1 KB1Vydavateľská verzia
    článok

    článok

  7. NázovStudy of proximity effects in HSQ e-beam resist on TiO2 thin film
    Autor Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Spoluautori Vutova Katia
    Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Zdroj.dok. ASDAM 2020 : 13th International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems. P. 65-70. - : IEEE, 2020 / Izsák Tibor ; Vanko Gabriel 1981
    KategóriaADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2021
    DOI 10.1109/ASDAM50306.2020.9393837
    Názov súboruPrístupVeľkosťStiahnutéTypLicence
    Study of proximity effects in HSQ e-beam resist on TiO2 thin film.pdfNeprístupný/archív280 KB0Vydavateľská verzia
    článok

    článok

  8. NázovExperimental and theoretical study on chemically semi-amplified resist AR-P 6200
    Autor Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Spoluautori Vutova Katia
    Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Tanaka Takeshi
    Korp. VEIT 2017. 20th International Summer School on Vacuum, Electron and Ion Technologies : Black Sea Resort Sozopol, Bulgaria : September 25-29, 2017
    Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 992 (2018), art. no. 012057
    KategóriaADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2018
    DOI 10.1088/1742-6596/992/1/012057
    URLURL link
    Názov súboruPrístupVeľkosťStiahnutéTypLicence
    Experimental and theoretical study on chemically semi-amplified resist AR-P 6200.pdfPrístupný1.2 MB0Vydavateľská verzia
    článok

    článok

  9. NázovElectron beam lithography method for high-resolution nanofabrication
    Autor Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Spoluautori Vutova Katia
    Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Koleva Elena
    AkciaInternational scientific conference High technologies. business. society. HTBS 2017 : 13.-16.3.2017 : Borovets, Bulgaria
    Zdroj.dok. International scientific conference High technologies. business. Society : Proceedings, Volume I "High technologies". Vol. I, no. 1 (2017), p. 9-12. - Sofia, Bulgaria : Scientific Technical Union of Mechanical Engineering Industry 4.0
    KategóriaAFC - Publikované príspevky na zahraničných vedeckých konferenciách
    Rok vykazovania2017
    URLURL link
    Názov súboruPrístupVeľkosťStiahnutéTypLicence
    Electron beam lithography method for high-resolution nanofabrication.pdfNeprístupný/archív415.1 KB1Vydavateľská verzia
    článok

    článok

  10. NázovLimitations of variable shaped electron beam lithography for advanced research and semiconductor applications
    Autor Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Spoluautori Vutova Katia
    Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    AkciaInternational spring seminar on electronics technology. ISSE 2017 ( 40 : May 10-14, 2017 : Sofia, Bulgaria )
    Zdroj.dok. Proceedings of the International Spring Seminar on Electronics Technology. (2017), art. no. 8000969. - : IEEE Computer Society
    KategóriaADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2017
    DOI 10.1109/ISSE.2017.8000969
    článok

    článok


  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.