Výsledky vyhľadávania
Názov Placement measurement and FE modeling results for distortion control of stencil masks Autor Ehrmann A. Spoluautori Kaesmaier R. Kragler K. Struck T. Haugender E. Loschner H. Lutz J. Butschke J. Letzkus F. Springer R. Držík Milan SAVSTAV - Ústav stavebníctva a architektúry SAV Hrkút Pavol 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Degen A. Shi F. Volland B. Sossna E. Rangelow I.W. Engelstad R.L. Akcia 19th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management. Technical Conference Vol 3873 : September 1999 : Monterey CA, USA Zdroj.dok. 19th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management : Proceedings. - CA, USA, 1999 Kategória AFC - Publikované príspevky na zahraničných vedeckých konferenciách Rok vykazovania 1999 
článok