Výsledky vyhľadávania
Názov PMMA resist profile and proximity effect dependence on the electron-beam lithography process parameters Autor Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Vutova Katia Koleva Elena Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Akcia VEIT 2019. 21st International Summer School on Vacuum, Electron and Ion Technologies : 23-27 September 2019 : Sozopol, Bulgaria Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 1492 (2020), art. no. 012015 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2020 DOI 10.1088/1742-6596/1492/1/012015 Názov súboru Prístup Veľkosť Stiahnuté Typ Licence PMMA resist profile and proximity effect dependence on the electron-beam lithography process parameters.pdf Prístupný 748.1 KB 1 Vydavateľská verzia 
článok