Výsledky vyhľadávania
Názov Fabrication of open stencil masks with asymmetric void ratio for the ion projection lithography space charge experiment Autor Volland B. Spoluautori Shi F. Heerlein H. Rangelow I.W. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Cekan E. Vonach H. Loeschner Hans Horner C. Stengl G. Buschbeck H. Zeininger M. Bleeker A. Benschop J. Zdroj.dok. Journal of Vacuum Science and Technology B. Vol. 18, no. 6 (2000), p. 3202-3206 Kategória ADC Rok vykazovania 2000 DOI 10.1116/1.1319688 
článok
Názov Experimental results of the stochastic coulomb interaction in ion projection lithography. Autor Jager W.H. Spoluautori Derksen G. Mertens B. Cekan E. Lammer G. Vonach H. Buschbeck H. Zeininger M. Horner C. Loeschner Hans Stengl G. Bleeker A. Benschop J. Shi F. Volland B. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Heerlein H. Rangelow I.W. Kaesmaier R. Zdroj.dok. Journal of Vacuum Science Technology B. Vol. 17, no. 6 (1999), p. 3099-3106 Kategória ADC Rok vykazovania 1999 článok